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石家莊京煌科技有限公司:用體檢傳遞關(guān)懷,為發(fā)展筑牢根基


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  • 探討高純氧化鋁在拋光液(CMP)中的粒徑控制與分散技術(shù)

    高純氧化鋁在拋光液中的關(guān)鍵作用 高純氧化鋁因其優(yōu)異的硬度、化學(xué)穩(wěn)定性以及可控的粒徑分布,成為化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝中不可或缺的材料。拋光液的性能直接影響半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃等精密器件的表面質(zhì)量,而氧化鋁顆粒的粒徑控制與分散技術(shù)則是決定拋光效率與精度的**因素。 粒徑控制:決定拋光精度的關(guān)鍵 氧化鋁顆粒的粒徑直接影響拋光效果。顆粒過大容易導(dǎo)致劃傷,過細(xì)則可能降低拋光速率。理想的粒徑范圍通常在幾十到幾

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