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小型濺射儀的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用,產(chǎn)生E(電場(chǎng))×B(磁場(chǎng))所指的方向漂移,簡(jiǎn)稱E×B漂移,其運(yùn)動(dòng)軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng),則電子就
快速退火爐系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對(duì)國內(nèi)開發(fā)和研究具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應(yīng)用**。? ? ? 本文針對(duì)現(xiàn)代半導(dǎo)體器件退火工藝
小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多,今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題:1、膜厚檢測(cè)儀原理:膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測(cè)量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法,進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中,對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁
同軸真空BNC接頭是一種常見的射頻連接器,廣泛應(yīng)用于射頻和微波通信、數(shù)據(jù)處理及測(cè)量設(shè)備。BNC(Bayonet Neill-Concelman)接頭是由美國的Paul Neill和Carl Concelman于1945年發(fā)明的。以下是同軸真空BNC接頭的一些特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):1. 易于連接和斷開:BNC接頭采用了快速卡口式結(jié)構(gòu),使得連接和斷開變得非常方便。用戶只需將插頭插入座子,然后旋轉(zhuǎn)90度即可完成連
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機(jī): 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號(hào)6幢11單元3層73號(hào)
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網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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