小型濺射儀問(wèn)題解答

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：113

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 快速退火爐系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

  快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過(guò)程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對(duì)國(guó)內(nèi)開發(fā)和研究具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應(yīng)用**。? ? ? 本文針對(duì)現(xiàn)代半導(dǎo)體器件退火工藝

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

  ?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問(wèn)題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽(yáng)極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)

• 恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術(shù)

  焦耳熱閃蒸技術(shù)，用于將含碳的廢料轉(zhuǎn)化為石墨烯材料。原理是利用**高溫環(huán)境將高碳含量材料變?yōu)槭?。先將這些廢料被磨成粉末，然后用高壓加熱到2000℃（3680°F到4940°F）之間。為了獲得高質(zhì)量的渦輪狀閃蒸石墨烯，閃蒸時(shí)間應(yīng)保持在30～100 ms之間。這種技術(shù)是一種較便宜制造石墨烯的方法，需要的能量也少得多，并可以將生活中廢棄的塑料碎片回收利用。在這項(xiàng)新的研究中，萊斯大學(xué)的科學(xué)家們已經(jīng)通過(guò)焦耳閃

• 磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

  磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電