HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

時(shí)間：2023-05-23作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：154

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  詞條說明

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó) HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲大的粒子系統(tǒng)上海伯東代理的美國(guó) HVA 真空閥門應(yīng)用于中國(guó)研制的亞洲大的粒子系統(tǒng) ( 100MV ),當(dāng)前世界上大的粒子系統(tǒng)為美國(guó)費(fèi)密國(guó)立實(shí)驗(yàn)室的一臺(tái)質(zhì)子同步 ( 200MV )上海伯東是美國(guó) HVA 真空閥門在中國(guó)境內(nèi)的代理商, 負(fù)責(zé)HVA valve 真空閥門在中國(guó)地區(qū)的銷售和相關(guān)

• 殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化

  殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國(guó) Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測(cè)試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進(jìn)一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實(shí)現(xiàn)真空過程相關(guān)的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化諸如提供氣體成分定量測(cè)定, 確定過程氣體純

• 美國(guó) HVA 真空閥門中國(guó)總代理

  上海伯東是美國(guó)?HVA 高真空和高真空閥門中國(guó)總代理!?HVA?是美國(guó)大的真空閥門制造商, 在美國(guó)有過四十年的歷史, 擁有6萬平方英尺的全自動(dòng)加工工廠,?HVA?提供高質(zhì)量, 準(zhǔn)確, 客制化的真空閥門. 無論是生產(chǎn)線升級(jí), 還是新設(shè)備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟(jì)有效的閥門解決方案, 其中高真空閘閥現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體氣體管路和各