殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過(guò)程優(yōu)化

時(shí)間：2023-04-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：113

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開(kāi)關(guān)柜檢漏

  氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開(kāi)關(guān)柜檢漏應(yīng)用于電力行業(yè)的中壓開(kāi)關(guān)柜, 廣泛使用在發(fā)電廠, 變電站, 地區(qū)電網(wǎng)和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等. 中壓開(kāi)關(guān)柜是一種金屬封閉開(kāi)關(guān)設(shè)備, 它對(duì)中壓開(kāi)關(guān)以外的其他設(shè)備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設(shè)備, **電力使用上的安全, 中壓開(kāi)關(guān)柜內(nèi)部通過(guò)吸和開(kāi)關(guān)控制電路.開(kāi)關(guān)吸合器需要檢漏中壓開(kāi)關(guān)柜內(nèi)部通過(guò)吸和開(kāi)關(guān)控制電路, 吸合器內(nèi)部真空環(huán)境, 如果有漏,

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計(jì)真空系統(tǒng)時(shí),?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• 美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3