KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

時間：2024-01-10

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

詞條
詞條說明
分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗
Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結試驗, 主要應用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結的不良影響, 然后對
美國 HVA 真空閥門選型
上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產(chǎn)品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列有
KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用
上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性
分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM