分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結(jié)試驗

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：87

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• KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

  上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進樣室 

• HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)

  激光是一種很奇妙的?”物質(zhì)”,?是人類繼原子能、計算機和半導(dǎo)體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因

• 分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺

  Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺真空探針臺一般用于復(fù)雜, 高速精密器件進行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產(chǎn)品的質(zhì)量和性并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本. 探針臺主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè), 光電行業(yè), 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環(huán)境?1. 真空探針臺通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由