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詞條說明
磁控濺射不同的工藝參數(shù)制作氧化鋁薄膜陶瓷基板的特性影響
采用磁控濺射法在氧化鋁陶瓷基板上制備了Cu薄膜,利用臺階測試儀、XRD以及半導體測試儀對薄膜的厚度、結(jié)構(gòu)及電學特性進行了表征及測試。結(jié)果表明,當濺射電流為0.6 A,氬氣流量為100 cm3/min時,制備出的薄膜結(jié)晶特性良好,具有優(yōu)異的電學特性。通過進一步深入研究,揭示了工藝參數(shù)影響薄膜性能的物理機理。 薄膜電路是利用真空鍍膜、紫外光刻、刻蝕以及電鍍工藝,在陶瓷基板上制作導體、無源器件和絕緣介
氮化鋁陶瓷基板是電子信息行業(yè)中大規(guī)模集成電路封裝、散熱基板用關(guān)鍵材料,在國計民生的各行各業(yè)擁有廣泛的應用領(lǐng)域,如國家鼓勵實施的集成電路升級、LED照明、電子及微電子封裝、功率封裝,如晶閘管、整流管等;包括大功率器件、電力電子器件;汽車電子的IGBT及MOSFET功率模塊封裝等。作為新型功能材料,氮化鋁廣泛應用于軍事和空間技術(shù)通訊、計算機、儀器儀表工業(yè)、電子設備、汽車、日用家電、辦公自動化等各個領(lǐng)
電子陶瓷基板主要包括氧化鋁和氮化鋁基板,具有硬度、導熱性、電阻率和熱穩(wěn)定性高,介電常數(shù)低,熱膨脹系數(shù)與芯片匹配等特點,是新一代微電子器件或系統(tǒng)的可以選擇,在**大功率電子元件中具有廣闊的應用前景。為實現(xiàn)電子系統(tǒng)的高密度互聯(lián),需要在陶瓷基板表面進行多尺寸、多間距的盲、通孔加工,且孔質(zhì)量需滿足芯片導通和引腳固定的封裝要求。 然而,氧化鋁和氮化鋁陶瓷是典型的硬脆材料,傳統(tǒng)的機械加工較易導致基板斷裂,而特種
隨著我國高鐵、航天、等領(lǐng)域的快速發(fā)展,未來對大功率電力電子器件的需求也將越來越大。為了適應較加復雜、苛刻的應用條件,大功率電力電子器件朝著高溫、高頻、低功耗以及智能化、模塊化、系統(tǒng)化方向發(fā)展,這對整個電子器件的散熱提出了嚴峻的挑戰(zhàn),而功率器件中基板的作用是吸收,芯片產(chǎn)生的熱量,并傳到熱沉上,實現(xiàn)與外界的熱交換 ,所以制備高熱導率基板材料成為研發(fā)大功率模塊電子產(chǎn)品的關(guān)鍵所在。例如目前大功率 LED
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